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반도체 장비/공정 기술 용어집

by digipine posted Nov 02, 2017
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반도체 장비/공정 기술 용어집 

1. 기본 공통 용어   
(영어 사전상의 의미보다는 반도체 공정에서 일반적으로 사용되는 용어 입니다.)

용어 한글 표기 용어의 의미

Abort 중지 Processs 진행중 장비 이상등으로 인해Process 를 중지시키는 것

Agent 대리인 "외국장비 Maker 대신으로 장비를 Set-up문제조치 및 유지등을 지원하는 사람"

Adjust 조정 "장비또는 Controller등에서 기계적 또는 전기적으로 어떤 이상적인 값이나 상태를 만들기 위해 조정해 주는것"

Align 정렬 "장비 또는 어떤 물질을 기계적,  물리적으로 정렬시켜 기본적  상태로 만들어 주는 것."

Air shower 공기 샤워 "Fab 內 청정도를 유지하기 위해 P/T 감소 방법으로 Class가 낮은 곳에서 높은 곳으로 이동할 경우 Air힘으로 P/T를 제거시키는 것"

Accuracy 정돈, 정확도 "동작한 물체의 정도가 얼마만큼 정확하게 움직였는지 또는 얼마만큼 정확한 값이 나타내는 용어"

Axis 축 기계 상에서 회전부의 중심부분을 의미함

B.M(Breakdown Maintenonce) 비, 엠 장비에 문제또는 고장이 발생한후 취해지는 조치및 수리

Bake 베이크 "PR 등에 포함되어 있는 습기를 없애기 위해 고온으로 Wafer등을 처리하는 것 "

Ball Valve 볼 밸브 "Pump Exhamst부에 Pump로의 Back stream을 방지하기 위해 Valve 내부에 고무형태의 Ball이 들어있는 Valve"

Batch 배치 단위 Process중 동시에 여러장의 Wafer 를 처리하는 형태

Bay 베이 Fab 을 공정별로 구분하여 지정한 Area

Bearing 베어링 "동력전달부에 마찰을 줄이고 원활한 동력을 전달하기 위해 설치 되는 부품"

Bipolar 바이폴라 "Unipolar와는 대조되는 의미로서 전하는 이동하는 Carrier를 Electron과 hole이 동시에 역할을 담당하는 것"

Bit 비트 Memory의 기본단위(1Byte=8bits)

Booster 부스터 "보통 Booster pump를 말하며 pump speed를 증가 시키기 위해 보조 Pump로 사용(단독 사용불가)"

Bottle Neck 병목현상 "장비의 생산처리 능력 부족및 백업장비 부재로 인해  Wafer(Run)가 밀집되는 현상"

Calibration 측정 장비 사용중 Reference값의 변화를 바로 잡는 것

Capa 캐파 Capability의 준말로 Wafer처리능력

Capacitor 캐패시터 전하를 저장할수 있는 소자

Carrier 캐리어  "① Wafer 를 이동시 사용하는 플라스틱 용기 ② 반도체에서 전하를 이동하는 입자"

Cassette 카세트 Wafer 끼리 접촉을 막기위해 Slot를 만들어 놓은 Wafer 보관용기

Chamber 캠버 Process가 진행되는 밀페된 공간

Chiller 냉동기 Cooling Water의 온도를 조절하는 장치

Chip 칩 "Wafer 제조공장에서 완성된 제품의 한조각을 말하며 한장의 Wafer에는 수많은 Chip이 형성되어 있다"

Clamp 클램프 Process중wafer를 고정시키는 장치

Clean Mat 무진매트 "Clean Room용 신발바닥에 묻은 Particl을 제거하기 위해 만든 접착력이 있는 매트"

Clean Note 무진노트 Fab內에서 사용되는 Particle이 발생되지 않는 종이로 만든 Note

Clean Room 청정실 "Particle 발생을 억제하고 Filter를 이용하여 발생된 P/T을 제거하여 먼지가 거의 없는 공간"

Collector 콜렉터 Tr에서 전자를 받아 들이는 부분

Compressor 냉동기 "Cryo pump 에 압축 He을 보내 Cryo pump 內의 온도를  낮추는 장치"

Crack 크랙 "SOG 공정등에서 OCD 용액이 굳으면서 수축되어 일어나는 부스러기"

CVD 화확적 기상증착 Chemical Vapor Deposition의 약자로 Deposition할 물질을 고온으로 증발시켜  wafer에 증착되도록 하는 Thin Film 성장 방법

CD 시디 "Critical Dimension의 약자로 Photo공정에서 Reticle의 패턴을 웨이 퍼에 노광후 현상시킨후의 선또는 패턴의 폭 또는 길이를 의미함."

Deposition 증착 물질을 Wafer 표면에 쌓이도록 하는 것

Develop 현상 PR이 도포된 웨이퍼를 노광장비에서 노광후 현상하는 과정

Diffusion 확산 Doping 된 불순물을 주변으로 퍼지게 하는 과정

Dry Etch 건식각 "Chemical을 사용하지 않고 Plasma를 이용하여 불필요한 부분을 없애는 것"

Dummy wafer 더미 웨이퍼 "생산 Wafer의 빈자리를 매워 Batch 단위의 공정이  진행될수 있도록 사용하는 Wafer"

Edge 에지 Wafer의 Device가 없는 가장자리 부분

Ellipso Meter 엘립소 메타 Oxide 두께를 측정하는 장치

Emergency 비상 문제발생시 긴급하게 장치의 Power를 차단

Emitter 에미터 Tr 에서 전자를 방출하는 부분

Etch 식각 필요한 부분을 제외한 나머지 부분을 깍아 없애는 것

Etch Rate 식각정도 식각되는 속도의 정도

FAB 팹 Fabrication의 약자로 Si웨이퍼가 가공되는 곳

Four Point Probe 포 포인트 프로브 Wafer표면 저항을 측정하는 장치

Furnace 로 Oxide 및 Anneal작업을 하는 로

Gate 게이트 FET에서 Source에서 Drain으로 가는 Electron의 양을 조절하는 부분

Gate Oxide 게이트 옥사이드 Gate를 보호하기 위한 산화막

Grinder 그라인드 Wafer의 뒷면을 가공하는 장치(back grinder)

G Line G선 "Mercury Lamp에서 나오는 약 200nm~700nm대역의 파장중 436nm 파장의 빛을 말하며 노광원으로 사용된다"

Hole 정공  + 전하를 띠고 Electron과 같이 전하를 이동하는 입자

I Line i선 "수은 램프에서 나오는 보통200nm~700nm의 파장의 빛중 i선에 상당하는 365nm대의 파장"

Ion 이온 원자나 분자가 전하를 띤 상태

Ion Gauge 이온게이지 "분자나 원자를 이온화시켜 그내부의 입자수를 Check하는Vacuum Gauge 일종"

Ion Implantation 이온주입 Wafer에 불순물을 주입하는 공정

LoT 로트 Wafer의 공정 수량 단위

Mano Meter 마노메타 배기부의 압력을 측정하는 계기

Metal Contamination 금속오염 "장비를 구성하고 있는 금속의 부분이 Sputtering되어 Wafer에 증착되어 Device에 나쁜 영향을 준다"

Metal Etch 메탈식각 Metal Line외의 부분을 깍아내는 공정

MFC 엠에프시 Mass Flow Control의 약자로 유체의 흐름을 조절하는 장치

MOS 모스 "Metal Oxide Semiconductor의 약자로 반도체(Si)의 표면에 산하막 (SiO2)을 형성하고 그위에 금속을 붙인 구조를 가지고 있다."

Marker 마커 "웨이퍼의 플랫존 부분에 LOT 이름 및 웨이퍼 번호등 을 만들어 주는장비"

O-Ring 오링 Vacuum Sealing 부분에 사용되는 고무재질의 링

Oxidation 산화 Si와 O2가 결합하여 SiO2가 되는 것

Oxide 산화막 절연및 Device 보호를 위한 산화막

Oxide Etch 산화막 식각 Ion주입을 위해 산화막의 일부를 제거하는 것

PR 피알 Photo Resistor의 약자로 일종의 감광액

Pattern 패턴 Mask에 Design된 Device의 형태

Photo 포토 "식각부위나 이온주위 부분을 지정하기 위해 일정부위를 보호하기 위한 Mask작업을 하는 공정"

PR Strip 피알제거 Photo Resistor를 현상액으로 약하게 한다음 Chemical로 제거하는 것

Quartz 석영 단결정의 수정을 가공해서 만든 무오염의 Wafer 취급 Part

Scrubber 스크러바 Toxic물질을 중화시키거나 걸러내는 장치

SEM 샘 "Scanning Electron Microscope의 약자로 주사형 전자현미경을 말함 시료의 표면을 전자빔에 의해 텔레비전식으로 주사하고 거기에서 나오는 2차 전자, 반사전자또는 시료전자를 검출하여 관찰하는 장치" 

Signal Tower 시그날 타워 장비의 상태를 알려주는 Tower Lamp        

Silicon 실리콘 Si, 4가 원소로서 반도체의 주원료 

SOG 에스오지 Spin On Grass의 약자로써 Wafer의 평탄화로 Topology를 좋게 한다 

Spec 스펙 공정에서 지정한 규정 또는 기준 

TAT 티에이 티 Turn Around Time의 약자로 Wafer투입후 가공완료까지의 소요시간 

Thereshold 문턱 Tr이 동작되기 위한 최소한의 Voltage 

Throughput 생산성 단위 시간당 처리할수 있는 능력 

Tilt 틸트 Channel 현상을 방지하기 위해 Wafer에 각도를 주는 것 

Tweezer 튀져 Wafer handing 도구 

Tube 튜브 Furnace 공정이 진행될수 있도록 Quartz로 만든 용기 

Ultra Sonic Cleaner 초음파 세척기 초음파를 이용한 Cleaning 도구 

Utility 유틸리티 장비 운전에 사용되는 전기, 물, 공기따위의 재료 

Wafer 웨이퍼 Chip을 만들기 위해 Si로 만들어진 판 

Wet Etch 습식각 Chemical를 이용한 식각 방법 

Wet Station 윁스테이션 습식각이 진행되는 장소

Yield 일드 투입한 Input량의 비율을 계산하여 산출량을 나타낼때 사용
            Fab Yield (생산일드)  
            Probe Yield (Test 일드)  
            PKG Yield (패키지 일드) 
            F/T Yield(Final Test일드)

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